안녕하십니까! 대기환경 및 나노입자 연구실입니다.

뿌듯하고 자랑스러운 소식이 새로 생겨 전해드립니다!


이번에 연구실에서 석사과정으로 졸업한 조용범 선배의 논문이 Journal of Water Process Engineering (IF : 7)에 게재가 확정되었습니다! 해당 저널은 Water Resources 분야에서 JCR 상위 6%에 속하는 저널로 Engineering, Environmental Water Resources Engineering, Chemical 등에 관한 논문을 다루고 있는 우수한 저널입니다.



본 논문은 염산으로 표면 개질이 수행된 Ti 기판 위에 Ru, Zn을 도핑해 열분해법으로 Ti/RuO2-ZnO 전극을 합성하였습니다. 염산 에칭(Etching)으로 Ti 기판의 표면적과 친수성을 크게 증가시켜 코팅 안정성을 향상시켰으며, OER 과전압이 10mAcm-2의 전류 밀도에서 221mV에 도달함으로 산화 전극으로의 뛰어난 활성도를 나타냈습니다. Ti/RuO2-ZnO 전극은 pH 5, 0.1M NaCl의 조건에서 활성 염소를 생성하여 3시간에 98.66%의 톨루엔을 산화시킴과 동시에 25.62mL의 수소를 생산하였습니다. 이를 통해 폐수에서 톨루엔을 제거할 수 있을 뿐만 아니라 수소 생산에도 적용될 수 있음을 보여주어 활성 양극의 연구에 기여할 것이라 기대합니다.


게재된 논문과 저널에 대한 정보는 하단의 링크를 방문하시면 확인하실 수 있습니다.

연구실에서 석사과정을 지내며 수많은 결실을 맺고, 그 결실을 모아 우수한 저널에 논문 게재에 닿기까지 무수한 노력을 한 조용범 선배에게 칭찬과 격려의 박수를 보내주시기 바랍니다!


https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2214714424008201

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